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工业清洗剂广泛用于精 密仪表、电子产品、金属零件表面处理、空调配件、录音磁头、工作现场电器设备、集成电路、线路板机械零件、高精度光学玻璃清洗、胶片、磁头、玻璃光学、发动机积碳重油污等产品的去油污。
基础情况
伴随着清洗技术的迅速发展，工业清洗已经涉及到几乎所有的工业领域，比如说纺织印染行业、石油化工行业、机械行业、采矿冶炼行业、表面处理行业、化学化工行业、仪器仪表行业、电子行业、半导体行业、钟表首饰行业、生物行业、光学行业等。
从此也可以看出工业清洗的巨大市场潜力及迅猛的发展势头。通常情况下，根据清洗作用的原理，工业清洗剂又可以这样分类，分为化学清洗、物理清洗和微生物清洗。发展历史zui久、应用zui广泛、种类zui多的是化学清洗。同时，根据化学清洗剂中含水量的不同又可以大致分为有机溶剂清洗剂、水基清洗剂及半水基清洗剂三种类型。
本文就分别介绍一下这三种不同类型化学清洗剂的配方组成、清洗效果。
01.有机溶剂清洗剂
有机溶剂清洗剂主要是指配方中不含有水的有机溶剂，有机溶剂清洗的作用机理主要是主要溶解一些不溶于水，但是易溶于有机溶剂的物质，例如(油脂、蜡、树脂、橡胶、染料和一些胶类物质等)和一些有机类的污垢。而有机溶剂的挥发性也导致其因为沸点低而易于进入环境中，其中氯代烃、氟代烃等氯代烃类物质容易对人体造成毒害作用，醇类物质及醇醚类物质又具有脂溶性，对动物及人体和环境带来比较大的伤害。
02.水基清洗剂
早期的水基清洗剂主要是用一些碱性较强的无ji碱或者无机盐类物质，因为配方单一，碱性强从而导致清洗过程中有很多弊端，清洗效果也是大打折扣。现在发展的水基清洗剂一改往常的弊端，添加了表面活性剂、络合剂、缓蚀剂、稳定剂、增溶剂及多种效果的成分，根据所清洗的目的及基材的不同，合理调试不同的配方。
水基清洗剂的配方调整还同样使用于多种手段同时达成，比如说对于铜件的清洗，不仅可以达到清洗的作用，同时也可以在清洗剂的配方中添加抛光的作用成分，使得铜件一次清洗就可以同时达到清洗和抛光的作用，再加入缓蚀剂，光亮剂等，不仅保证了配方的除油作用，还可以很好的控制配方的PH，使得铜件不至因为过低的PH而造成腐蚀。
水基清洗剂补充了有机溶剂清洗剂的不足，具有价廉、安全、环保的优点，所需的成分容易获得与再生。因此，同样清洗效果的情况下，水基清洗剂更能够替代有机溶剂清洗剂。
03.半水基清洗剂
半水基清洗剂与有机溶剂清洗剂不同的是其向有机溶剂中加入了水和表面活性剂。
其清洗机理包括了表面活性剂的水基清洗剂与溶剂清洗剂的结合机理。半水基清洗剂既保持了原溶剂型清洗剂对油污清洗力强、对基体润湿渗透好的优点，又提高了对水性污垢的去除能力，与有机溶剂清洗剂相比，拓展了在无机污垢方面的清洗能力。由于水的加入，提高了清洗剂的闪点，降低了挥发性，提高了原溶剂的安全性，应用范围更广泛。
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